Skip to Content.
Sympa Menu

fizinfo - [Fizinfo] Ortvay kollokvium

fizinfo AT lists.kfki.hu

Subject: ELFT HÍRADÓ

List archive

[Fizinfo] Ortvay kollokvium


Chronological Thread 
  • From: Szommer Peter <szpl AT metal.elte.hu>
  • To: fizinfo AT lists.kfki.hu
  • Subject: [Fizinfo] Ortvay kollokvium
  • Date: Fri, 23 Nov 2012 10:04:06 +0100
  • List-archive: <http://mailman.kfki.hu/pipermail/fizinfo>
  • List-id: ELFT HÍRADÓ <fizinfo.lists.kfki.hu>

ELTE Fizikai Intézet

ORTVAY KOLLOKVIUM

2012. novmber 29., csütörtök, 15:10-kor
Az ELTE Pázmány Péter s. 1/A alatti épületében
földszinti 0.81 előadóban


Bíró László Péter
(MTA-TTK MFA, Nanoszerkezetek Osztály; Korean-Hungarian Joint Laboratory
for Nanosciences)

"Grafén: kémiai leválasztás, szemcsehatárok és atomi léptékű megmunkálás"

Kivonatos ismertetés:
Kivonatos ismertetés:

Az egyetlen atom vastag grafén kísérleti megvalósítása [i] erőteljes hatásokat gyakorolt a nanoszerkezetek kutatási irányaira, amit mi sem igazol jobban, mint a 2011-ben ezen a területen publikált 6000 tudományos folyóiratcikk (Web of Science). A 2010. évi Fizikai Nobel Díj csak megerősítette azt a vélekedést,
hogy új utak nyílnak az atomi skálán megtervezett tulajdonságú anyagok felé.


Az alapkutatások terén történt előrelépésen túl a grafén számos izgalmas alkalmazással is kecsegtet az egyetlen atom vastag nanoelektronikától [ii], a különféle kompozitokon át a génszekvenálásig [iii]. Szinte valamennyi alkalmazásnak előfeltétele:

grafén előállítás nagy felületen

jó minőségű és jól jellemzett rétegben.


Hasonlóan a húsz évvel ezelőtt történtekhez a szén nanocsövek (CNT)
előállítása
terén [iv] a nagy felületű grafén előállításnak legígéretesebb módszere a kémiai leválasztás (CVD) [v]. A CVD folyamat során a véletlenszerű nukleáció és szemcsenövekedés ma még általában véletlenszerű szemcsehatár-szerkezetekhez vezet. A szemcsehatárok erőteljes befolyást gyakorolnak az elektromos transzportra [vi]. Megkerülhetetlen ezeknek a szemcsehatároknak az atomi léptékű jellemzése: HRTEM [vii], AFM [viii], STM [ix] és számítógépes szimuláció [x] segítségével. A pásztázószondás módszerek lehetőséget nyújtanak a transzfer nélküli jellemzésre a CVD növesztés során alkalmazott Cu felületén,
ezzel szemben, a transzfer és az elektron besugárzás (HRTEM-ben) során a szemcsehatárok módosulhatnak.


Egy másik, ugyancsak a CVD növesztés során beépülő kiterjed hiba a
"nanoráncok"
(nanowrinkles), amelyek a növesztés során a Cu szubsztrát felszínén kialakuló lépcsőszerkezet [xi] következményei. A nanoráncok még az atomi simaságú csillám felületre történő grafén transzfer után is megmaradnak és befolyásolják
az elektromos transzportot [xii] valamint az elektronszerkezetet [xiii]. Polarizált fényben végzett optikai mikroszkópia alkalmazásával olyan új módszert fejlesztettünk ki, amely lehetőséget kínál a nanoráncok orientációjának
gyors és szennyeződés mentes feltérképezésre [xiv].


Végül, de nem utolsó sorban szükséges a grafén atomi léptékű megmunkálása meghatározott kristálytani irányok szerint, például pásztázó alagútmikroszkópos
litográfia (STL) alkalmazásával [xv]. A HOPG felszínén végzett megmunkálás lehetőséget ad az egyetlen atomi rétegben történő nanoarchitektúrák [xvi] kialakítására STL-lel, azonban a kész nanoarchitektúra áthelyezése egy szigetelő felületre nagy kihívásokat hordoz magában. Két irányban lehetséges továbblépni, vagy magán a szigetelőn létrehozni a nanoarchitektúrát [xvii], vagy CVD grafénban kialakítani a nanoarchitektúrát, ami megkönnyíti a hordozó és nanoarchitektúra kémiai szétválasztását. A CVD grafénban végzett STL kihívásai és a lehetséges megoldásai is tárgyalásra kerülnek.



i K. S. Novoselov et al., Science, 2004, 306, 666-9.

ii Y.-M. Lin, et al., Science, 2011, 332, 1294-1297.

iii Z. S. Siwy and M. Davenport, Nature nanotechnology, 2010, 5, 697-8.

iv A. Fonseca, et al., Applied Physics A, 1998, 67, 11-22.

v X. Li, et al., Science, 2009, 324, 1312-4.

vi Q. Yu, L. et al., Nature materials, 2011, 10, 443-9.

vii P. Y. Huang, et al., Nature, 2011, 469, 389-92.

viii P. Nemes-Incze, et al., Applied Physics Letters, 2011, 99,
023104-1-023104-3.

ix L. Tapaszto, et al., Applied Physics Letters, 2012, 100, 053114-1-053114-4.

x G. I. Márk, et al., Physical Review B, 2012, 85, 125443-1-125443-9.

xi J. M. Wofford, et al., Nano letters, 2010, 10, 4890-4896.

xii G.-X. Ni, et al., ACS nano, 2012, 6, 1158-64.

xiii L. Tapasztó, et al., Nature Physics, 2012, 8, 739-742.

xiv K. Kertész, et al., Applied Physics Letters, 2012, 100, 213103-1-213103-5.

xv L. Tapasztó, et al., Nature nanotechnology, 2008, 3, 397-401.

xvi G. Dobrik, et al., Nanopages, 2012, 7, 1-7.

xvii P. Nemes-Incze, et al., Nano Research, 2010, 3, 110-116.




Archive powered by MHonArc 2.6.19+.

Top of Page